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弗蘭克·蓋裡修改“艾森豪紀念碑”設計

這個紀念碑, 是蓋裡在華盛頓的第一個建築項目, 計畫安排在華盛頓“國家廣場”(National Mall)的一個非常好的位置, 距離大衛-阿德加耶(David Adjaye)設計的“非洲裔美國人歷史和文化國家博物館”不遠。

這個博物館將于明年動工。

蓋裡的紀念碑是25米高的“金屬掛毯”, 上面有美國第三十四屆總統艾森豪在堪薩斯州農村的童年生活照片。 糧倉和樹木的形象, 將構成一個紀念公園。 公園裡種植的是堪薩斯的小無花果樹。

稍微的設計變化, 是回應規劃者的擔心:紀念碑將會擋住國會大廈的景觀, 而本地工人擔心它會擋住他們的光線。 艾森豪的家族關心紀念碑的尺寸。

蓋裡說, 設計方案吸收了各方面的建議。

今年年底, 美國“首都規劃委員會”將對蓋裡的設計方案進行投票。

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